佳能启动光刻设备扩产,布局纳米压印技术路线

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集微网消息,据日媒报道,佳能公司日前宣布将在宇都宫地区新建工厂,扩大其半导体光刻设备产能。

公司方面表示,此举是为了应对中长期需求的增长,新工厂计划投资额约380亿日元,占地面积约7万平方米,计划在2023年下半年开工,2025年上半年建成投产,这也是该公司21年来首度扩产。

报道称,该工厂除了生产其现有的光刻机系列产品,还将生产纳米压印光刻设备。

目前,佳能公司与大日本印刷、铠侠正共同开发纳米压印设备,在学术界,日本研究者也已经演示了10纳米分辨率的纳米压印技术,据估计如使用纳米压印制造先进制程芯片,成本将比现有EUV光刻机降低40%,能耗减少90%,有望成为EUV光刻的替代工艺。

(校对/武守哲)

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